2022年7月28日，御微半导体首台全自动掩模缺陷检测设备i6R-300顺利发运国内集成电路先进制程生产线。

御微半导体自主研发的i6R-300掩模缺陷检测设备是基于已被业界广泛认可i6R-100和i6R-200掩模缺陷检测设备的进一步升级开发。i6R-300采用高精度明暗场双检测系统，可以快速高效地同时检测光掩模多个表面上的细微缺陷，并提供缺陷分类、全景检视等功能，为工艺过程控制提供关键数据。为提高生产效率，i6R-300检测设备满足完整的SEMI 自动化标准，可灵活对接OHT和AGV等工厂自动化工具。除检测功能外，i6R-300还提供了光罩清洁和多类型掩模支持的一站式解决方案，能够灵活满足不同客户工艺管控的需求。

御微半导体i6R-300掩模缺陷检测设备

i6R-300是御微半导体推出的用于集成电路先进制程领域的新一代掩模缺陷检测设备，进一步丰富了御微半导体现有的掩模检测设备产品线。御微半导体将致力强化核心技术，不断提升研发、设计、制造能力，持续以优质的产品和全面的服务为客户创造价值。

关于御微

御微半导体是一家以市场和技术双轮驱动，为集成电路制造提供先进装备的科创企业。公司面向集成电路制造、先进封装、化合物半导体、新型显示等领域，为客户提供具有竞争力的产品及技术解决方案。公司聚焦于集成电路光学量检测系统设计与系统集成，围绕集成电路装备自主化，已经形成了掩模版检测、晶圆检测、泛半导体检测、晶圆测量等4大领域6大类量检测产品。深耕技术实力、提高产品性能，丰富产品类型，促进国内半导体设备产业健康快速发展，为客户不断创造价值。