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掩模版缺陷检测设备

生产线常见缺陷检测

高分辨率、高检出率、高产率、颗粒清洁、工厂自动化

特点场景

高分辨率:采用高分辨率成像系统,提升颗粒探测灵敏度至微米量级

高检出率:配置多种照明模式,提高不同缺陷检测工艺适应性

高产率:配备3个独立SMIF版库、提高设备产率

颗粒清洁:配置气浴模块,可清洁玻璃表面颗粒

工厂自动化:支持SECS/GEM SEMI标准,全面满足工厂自动化需求

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